[发明专利]沉积膜形成设备有效
| 申请号： | 01111757.5 | 申请日： | 2001-03-23 |
| 公开（公告）号： | CN1319681A | 公开（公告）日： | 2001-10-31 |
| 发明（设计）人： | 西内武司;嶋本育夫;菊井文秋;栃下佳己;佐藤一光 | 申请（专利权）人： | 住友特殊金属株式会社 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/14;H01F41/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 孙征 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明第一实施例提供了一种沉积膜形成设备,其中筒体和蒸发段之间的距离可以改变,因此可以同时取得在每个装在筒体中的工件表面上有效形成沉积膜以及抑制其软化。则可以抑制在每个工件表面上形成的沉积膜的损坏以及在沉积膜上产生突起,并以高质量的抗腐蚀性和较低的成本形成沉积膜。根据本发明第二实施例的沉积膜形成设备,限定在筒体中的容装段和蒸发段之间的距离改变,此沉积膜形成设备具有与本发明第一实施例的沉积膜沉积设备相似的效果。 | ||
| 搜索关键词： | 沉积 形成 设备 | ||
【主权项】：
1．一种沉积膜形成设备，包括一个用于一沉积材料的蒸发段，以及一个由丝网形成用于容装工件的管状筒体，每个工件的表面上要沉积一沉积材料，所述蒸发段和所述管状筒体安装在一个真空处理腔中，其中所述管状筒体支撑在一个支撑件的水平转轴周向外侧，支撑件可以绕所述转轴旋转，这样筒体可以绕所述转轴旋转，从而所述绕支撑件的转轴旋转的管状筒体和所述蒸发段之间的距离可以通过旋转支撑件而改变。
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