[发明专利]可制备平整的薄膜材料的脉冲激光沉积方法及其装置

摘要

本发明涉及采用激光的方法和装置来制备薄膜材料,尤其是涉及脉冲激光沉积的方法和装置。它是在传统制备方法和装置的基础上,在靶和衬底之间增设了颗粒选择阻挡件,用脉冲激光轰击靶材料使之小颗粒沉积在衬底上;亦即在本发明的制备装置结构中除了原有的激光器和真空室外,还增加了颗粒选择阻挡件和同步器;其中颗粒选择阻挡件由转动叶轮5及其驱动机构4组成,而同步器由辅助激光器6和光敏传感器2、控制器11组成。在颗粒选择阻挡件和同步器的共同作用下,能够大大减少薄膜表面的大颗粒沉积物、提高薄膜的表面平整度、改善它的表面形貌,从而提高了薄膜的质量。

主权项

1、一种可制备平整的薄膜材料的脉冲激光沉积方法，其具体步骤为：①针对所需制备的薄膜材料设定脉冲激光参数；②将相应的靶和衬底材料置于真空室内的相应位置处，并将真空室抽至所需的真空度、将衬底加热至所需的温度；其特征在于：③在靶和衬底之间设置颗粒选择阻挡件，用脉冲激光轰击靶材料使之小颗粒沉积在衬底上。