[发明专利]光盘原版盘的制造方法无效
| 申请号： | 01117852.3 | 申请日： | 2001-04-13 |
| 公开（公告）号： | CN1332451A | 公开（公告）日： | 2002-01-23 |
| 发明（设计）人： | 高畑广彰;小宅久司 | 申请（专利权）人： | TDK株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/26 | 分类号： | G11B7/26;G03F7/00 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 段承恩 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在制造光盘原版盘时,抑制成本的上升,另外,以最小限度的制造工序中的负荷来制造具有比已有技术更细微的图案的光盘原版盘。一种光盘原版盘制造方法,制造表面上具有凹凸图案的光盘原版盘,包括在基板上形成光刻胶层的光刻胶层形成工序、通过曝光光刻胶层来形成上述凹凸图案的潜影的曝光工序和显影上述潜影的显影工序,在光刻胶层形成工序和曝光工序之间,或在曝光工序和显影工序之间具有使光刻胶层与表面活性剂接触的表面活性剂处理工序。 | ||
| 搜索关键词： | 光盘 原版 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光盘原版盘的制造方法，该方法是制造表面上具有凹凸图案的光盘原版盘的方法，包括：在基板上形成光刻胶层的光刻胶层形成工序、通过曝光光刻胶层来形成上述凹凸图案的潜影的曝光工序和显影上述潜影的显影工序，在光刻胶层形成工序和曝光工序之间，或在曝光工序和显影工序之间具有使光刻胶层与表面活性剂接触的表面活性剂处理工序。
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