[发明专利]磁复制方法和磁记录介质无效
| 申请号： | 01118028.5 | 申请日： | 2001-05-15 |
| 公开（公告）号： | CN1326185A | 公开（公告）日： | 2001-12-12 |
| 发明（设计）人： | 西川正一 | 申请（专利权）人： | 富士胶片株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/86 | 分类号： | G11B5/86;G11B5/84 |
| 代理公司： | 北京市专利事务所 | 代理人： | 程凤儒 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 在从属介质的两个面上,利用磁复制可复制出品位高的复制图案。磁复制方法是,在将磁复制用主载体和从属介质紧密接触,施加复制用磁场,对磁记录介质每个单面进行磁复制的方法中,向从属介质的在先磁复制面进行磁复制中使用的磁复制用主载体磁性层的饱和磁化(Ms1)和膜厚(δ1)之积(Ms1δ1),与从属介质的在后复制面进行复制使用的主载体磁性层的饱和磁化(Mδ2)和膜厚(δ2)之积(Ms2δ2)存在1.5<(Ms2δ2)/(Ms1δ1)<10的关系,向在先磁复制面的复制磁场(Hdu1)和在后复制介质面的复制磁场(Hdu2)存在0.2≤Hdu2/Hdu1≤0.9的关系。 | ||
| 搜索关键词： | 复制 方法 记录 介质 | ||
【主权项】：
1.一种磁复制方法，其特征是在将磁复制用主载体和从属介质紧密接触，施加复制用磁场，对从属介质的每个单面进行磁复制方法中，对从属介质的在先磁复制面进行磁复制使用的磁复制用主载体磁性层的饱和磁化(Ms1)和膜厚(δ1)之积(Ms1δ1)，与从属介质在后复制面进行复制使用的磁复制用主载体磁性层的饱和磁化(Ms2)和膜厚(δ2)之积(Ms2δ2)，存在1.5＜(Ms2δ2)/(Ms1δ1)＜10的关系，在先磁复制面的复制磁场(Hdu1)和在后复制的从属介质面的复制磁场(Hdu2)，存在0.2≤Hdu2/Hdu1≤0.9的关系。
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