[发明专利]发光器件的制造方法有效
申请号: | 01119049.3 | 申请日: | 2001-05-14 |
公开(公告)号: | CN1333645A | 公开(公告)日: | 2002-01-30 |
发明(设计)人: | 山形裕和;高桥正弘 | 申请(专利权)人: | 株式会社半导体能源研究所 |
主分类号: | H05B33/10 | 分类号: | H05B33/10;H05B33/12 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王勇,张志醒 |
地址: | 日本神*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 提供了一种获得具有包含掺杂剂的发光层的EL元件的优异发光性能的方法,从而提供了一种制造含有此具有优异发光性能的EL元件的发光器件的方法,其中用蒸发方法制作由发光材料和掺杂剂构成的第一发光层,并借助于继续蒸发发光材料,同时停止蒸发掺杂剂,而制作由发光材料构成的第二发光层。结果,提高了各个发光层的连续性,从而能够得到优异的发光性能。 | ||
搜索关键词: | 发光 器件 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种制造发光器件的方法,包含下列步骤:用蒸发方法制作由有机材料和掺杂剂构成的第一薄膜;以及借助于停止蒸发掺杂剂,同时继续蒸发有机材料,而制作由有机材料构成的第二薄膜。
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