[发明专利]双摆幅式电荷恢复低功耗电路结构无效
申请号: | 01120679.9 | 申请日: | 2001-07-26 |
公开(公告)号: | CN1144281C | 公开(公告)日: | 2004-03-31 |
发明(设计)人: | 李晓民;罗家俊;仇玉林;陈潮枢 | 申请(专利权)人: | 中国科学院微电子中心 |
主分类号: | H01L21/82 | 分类号: | H01L21/82;H03K19/0948;H01L27/092 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人: | 汤保平 |
地址: | 1000*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 一种双摆幅式电荷恢复低功耗电路结构,包括:第一PMOS管,源极和衬底接在高幅值的脉冲电源,门极和漏极接在A结点和B结点;第二PMOS管,源极和衬底都接在高幅值的脉冲电源上,门极和漏极接在B结点和A结点;第一NMOS管,漏极接在B结点,源极接地,门极接输入信号;第二NMOS管,漏极接在A结点,源极接地,门极接另一输入信号;第三NMOS管,其漏极接在输出结点C,源极接低摆幅的脉冲电源,门极接B结点;第四NMOS管,漏极接在输出结点D,源极接低摆幅的脉冲电源,门极接在A结点;第五NMOS管,漏极接在输出结点C,源极接地,门极接A结点;第六NMOS管,漏极接在输出结点D,源极接地,门极接B结点;所有的NMOS管的衬底均接地。 | ||
搜索关键词: | 双摆幅式 电荷 恢复 功耗 电路 结构 | ||
【主权项】:
1、一种双摆幅式电荷恢复低功耗电路结构,其特征在于:其中包括:第一PMOS管,其源极和衬底都接在高幅值的脉冲电源上,其门极和漏极分别接在A结点和B结点上;第二PMOS管,其源极和衬底都接在高幅值的脉冲电源上,其门极和漏极分别接在B结点和A结点上;第一NMOS管,其漏极接在B结点上,源极接地,门极接输入信号;第二NMOS管,其漏极接在A结点上,源极接地,门极接另一输入信号;第三NMOS管,其漏极接在输出结点C上,源极接低摆幅的脉冲电源,门极接B结点上;第四NMOS管,其漏极接在输出结点D上,源极接低摆幅的脉冲电源,门极接在A结点上;第五NMOS管,其漏极接在输出结点C上,源极接地,门极接A结点上;第六NMOS管,其漏极接在输出结点D上,源极接地,门极接B结点上;以上所述的所有的NMOS管的衬底均接地。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
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