[发明专利]改进反差和与干法及常规冲洗加工均相容的彩色照相基材无效
申请号: | 01121094.X | 申请日: | 2001-06-13 |
公开(公告)号: | CN1328271A | 公开(公告)日: | 2001-12-26 |
发明(设计)人: | D·T·索斯比;杨希强;B·P·霍尔格 | 申请(专利权)人: | 伊斯曼柯达公司 |
主分类号: | G03C1/42 | 分类号: | G03C1/42;G03C1/498;G03C8/40;G06T1/00;H04N1/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王其灏 |
地址: | 美国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及冲洗加工已成像曝光的彩色照相胶片的方法,其中所述胶片具有至少三个在不同波长区域具有独立的感光度的感光单元,每个单元包括至少一种感光卤化银乳剂和影象成色剂,其中所述胶片含有掺入的还原剂、至少一种有机银盐和酰胺化合物。 | ||
搜索关键词: | 改进 反差 常规 冲洗 加工 均相 彩色 照相 基材 | ||
【主权项】:
1.冲洗加工已成像曝光的彩色照相胶片的方法,所述胶片具有至少三个在不同波长区域具有独立的感光度的感光单元,每个单元包括至少一种感光卤化银乳剂和影象成色剂,所述方法包括在30至60℃的温度下使所述已成像曝光的彩色照相胶片与含有非阻塞显影剂的水溶液接触;和其中所述胶片还含有掺入的还原剂,至少一种有机银盐和式I的酰胺化合物:式中INH为显影抑制剂;LINK为连接或定时(timing)基团,m为0、1或2;和R1和R2独立为氢原子或脂族、芳族或杂环基团,或R1和R2一起与它们连接的氮代表形成5或6元环或多环体系所必需的原子,或者R1和R2独立为-C(=O)(LINK)m-INH基团,或者由-NR3C(=O)-(LINK)m-INH取代,其中R3定义为与R1或R2相同,条件是R1和R2只有一个可为氢原子;其中所述还原剂在上述含水的彩色显影步骤中基本不反应,但其中所述已成像曝光胶片的彩色显影能够通过以下操作代替而得到:在没有任何另外施加的显影剂及在基本不存在水溶液下通过加热所述胶片至高于大约80℃,这样所掺入的还原剂与所述影象成色剂反应形成染料;条件是当将所述胶片加热至高于80℃时所述酰胺化合物有效地降低反差,而当通过使所述已成像曝光彩色照相胶片与非阻塞显影剂在水性条件及在30至60℃的温度下接触来冲洗加工所述胶片时,则基本上不降低反差。
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