[发明专利]用于真空蒸镀和有机电荧光器件的设备和方法有效
| 申请号： | 01121971.8 | 申请日： | 2001-06-22 |
| 公开（公告）号： | CN1333385A | 公开（公告）日： | 2002-01-30 |
| 发明（设计）人： | 椿健治;城户淳二;岸上泰久;近藤行广 | 申请（专利权）人： | 松下电工株式会社;城户淳二 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24;C23C14/12;H01J63/04 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 张民华 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一真空蒸镀设备包括具有多个蒸发源和一加热器的一真空室,加热器加热诸蒸发源以实现在真空室内的至少一基片的一表面上的真空蒸镀。至少一蒸发源利用一有机材料,将包围诸蒸发源和诸蒸发源和基片在内相互面对的一空间的一热壁加热至该有机材料既不附着又不分解的一温度。通过加热诸蒸发源同时使诸蒸发源和基片彼此相对运动使该有机材料蒸镀在基片的表面上。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 真空 机电 荧光 器件 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.真空蒸镀设备，该设备包括：具有多个蒸发源和一加热器的一真空室，加热器用于加热蒸发源以实现在该真空室内的至少一基片的一表面上的真空蒸镀；诸蒸发源中的至少一个使用一有机材料；将一热壁加热到该有机材料既不附着又不分解的一温度，所述热壁包围诸蒸发源和基片在其内相互面对的一空间；以及通过加热诸蒸发源同时使诸蒸发源和基片彼此相对移动，使所述有机材料被蒸镀在基片的表面上。
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