[发明专利]形成纳米结构处理方法和专用处理设备无效
| 申请号： | 01122981.0 | 申请日： | 2001-07-27 |
| 公开（公告）号： | CN1336445A | 公开（公告）日： | 2002-02-20 |
| 发明（设计）人： | 卢柯;吕坚 | 申请（专利权）人： | 中国科学院金属研究所 |
| 主分类号： | C21D7/06 | 分类号： | C21D7/06;C23C8/24;C23C8/02 |
| 代理公司： | 沈阳科苑专利代理有限责任公司 | 代理人： | 许宗富,周秀梅 |
| 地址： | 110016 辽*** | 国省代码： | 辽宁;21 |
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| 摘要： | 一种形成纳米结构处理方法和专用处理设备,是在金属零件上进行表面处理,步骤1)完全球状弹丸在待处理金属零件的全部表面上进行喷射处理;2)移动撞击点位置、重复步骤1),使撞击点覆盖金属零件全部待处理表面;3)所述步骤1)、2)同时,在形成纳米结构的表层中进行物理化学处理;设备包括完全球状的弹丸等,金属零件与固定部件相连,构成容器一个壁面,在容器中弹丸由循环喷射装置驱动、以可变入射角与金属零件表面反复撞击接触,循环喷射装置为能使弹丸对金属零件表面、在一个相同撞击面上以多个入射角进行多次撞击的装置;在密封的隔音腔体中还设有化学或化学热处理装置。它能在材料表面上形成纳米尺度的显微结构或纳米结构的表层。 | ||
| 搜索关键词： | 形成 纳米 结构 处理 方法 专用 设备 | ||
【主权项】：
1.一种形成纳米结构处理方法，其特征在于：在金属零件的表面区域上进行表面处理，以取得纳米结构表层，具体步骤为：1)在确定的持续时间里，以确定的速度、确定的距离、相同撞击点、可变入射角和限定数量的并可长期重复使用的完全球状弹丸在待处理金属零件的全部表面上进行一种喷射处理；2)移动撞击点位置、重复步骤1)，使撞击点覆盖金属零件的全部待处理表面；3)当实施所述步骤1)、2)的同时，在形成纳米结构的表层中进行物理化学处理。
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