[发明专利]晶片洗净装置和方法

摘要

一种晶片洗净装置和方法，其目的在于通过连续监测已用作清洗后的水的电性质，而在线上监测晶片的洁净度，该晶片洗净装置包括供水装置、电性质监测装置以及信号传送装置，供水装置用以将水供应至晶片的表面；电性质监测装置则用以连续侦测已用作清洗后的水的电性质，而送出电性质信号；信号传送装置用以接收电性质信号。当电性质信号未达到既定值时，送出继续清洗晶片信号至供水装置，当电性质信号达到既定值时，送出停止清洗晶片信号至供水装置。由监测已用作清洗后的水的电性质。本发明可在线上直接监测晶片的洁净度，避免晶片发生洗净不足或过度洗净的情况，可达到最高的经济效益。

主权项

1、一种晶片洗净装置，其特征在于：包括：一第一臂和一第二臂；一供水装置，用以将水经由该第二臂供应至一晶片的表面，以清洗晶片的表面；一电性质监测装置，位于上述晶片的下方，用以连续侦测已用作清洗后的水的电性质，而送出一电性质信号；一信号传送装置，与上述电性质监测装置电性连接，用以接收该电性质信号，当该电性质信号未达到一既定值时，送出一继续清洗晶片信号至该供水装置，当该电性质信号达到一既定值时，送出一停止清洗晶片信号至该供水装置；以及一刷洗装置，设置于该第一臂上，用以在以水清洗该晶片的表面时，刷洗该晶片。