[发明专利]磁记录介质用玻璃基体的制造方法无效
| 申请号： | 01124302.3 | 申请日： | 2001-06-09 |
| 公开（公告）号： | CN1336637A | 公开（公告）日： | 2002-02-20 |
| 发明（设计）人： | 藤村明男;保坂俊雄;益永纯次 | 申请（专利权）人： | 三井金属矿业株式会社 |
| 主分类号： | G11B5/84 | 分类号： | G11B5/84 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 周慧敏 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 磁记录介质用玻璃基体的一种制备方法,该方法包括如下步骤在抛光玻璃基体所用的双侧抛光装置的上和下两划线台之间夹心一块供校正的磨耗板,同时,使该上和下划线台与该抛光装置适配,在提供冷水的同时以相反方向旋转该上和下划线台,以此将这些划线台的表面抛光到台表面的平整度不超过30μm的级别;然后将磨耗布分别粘在该上下划线台上此后,重复地抛光该磁记录介质用玻璃基体的表面。本发明方法可有效制造一种极好的磁记录介质用玻璃基体。甚至在磁记录层一侧上玻璃基体表面的周边区域,该玻璃基体也没有任何显著程度的周边凹凸,甚至在磁记录层一侧上最外周边附近的区域,该玻璃基体表面的光滑度或平整度以及一致性也很出色,而且该玻璃基体没有任何明显量的表面疵点。 | ||
| 搜索关键词： | 记录 介质 玻璃 基体 制造 方法 | ||
【主权项】：
1.磁记录介质用玻璃基体的一种制备方法，该方法包括如下步骤：在抛光玻璃基体所用的双侧抛光装置的上和下两划线台之间夹心一块供校正的磨耗板，同时，使该上和下划线台与该抛光装置适配，在提供冷水的同时以相反方向旋转该上和下划线台，以此将这些划线台的表面抛光到台表面的平整度不超过30μm的级别；然后将磨耗布分别粘在该上下划线台上；此后，重复地抛光该磁记录介质用玻璃基体的表面。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于三井金属矿业株式会社，未经三井金属矿业株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/01124302.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
