[发明专利]一种亚微米级碳化硅的生产方法无效
| 申请号： | 01124696.0 | 申请日： | 2001-08-07 |
| 公开（公告）号： | CN1137046C | 公开（公告）日： | 2004-02-04 |
| 发明（设计）人： | 祁利民;吴澜尔;刘雅琴;马丽娟;杨政红;马泉山;王富洲;杨继光;张吉庆 | 申请（专利权）人： | 宁夏回族自治区新技术应用研究所 |
| 主分类号： | C01B31/36 | 分类号： | C01B31/36;B24D3/34;C09K3/14;C08J5/14 |
| 代理公司： | 宁夏专利服务中心 | 代理人： | 叶学军 |
| 地址： | 750021宁夏回*** | 国省代码： | 宁夏;64 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种亚微米级碳化硅的生产方法，包括在碳化硅研磨介质存在的条件下，将粒度为100-1500目的碳化硅稀料浆研磨60～90小时，其特点是在碳化硅稀浆料中添加分散剂，并将碳化硅研磨介质按其粒径的大、中、小配比加入，本发明具有设备投资小，生产工艺简单，质量容易控制等优点，它只进行一次粉碎加工就能达到使85-99％的碳化硅粉体粒径小于1微米。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 微米 碳化硅 生产 方法 | ||
【主权项】：
1.一种亚微米级碳化硅的生产方法，包括在碳化硅研磨介质存在的条件下，将粒度为100-1500目的碳化硅稀料浆研磨60～90小时，其特征是：在上述碳化硅稀料浆中添加分散剂，所述分散剂为阴离子型表面活性剂与非离子型表面活性剂的组合物，其加入量为物料重量的1-5％；所述碳化硅研磨介质是按其粒径的大、中、小以1∶3-10∶20-30的重量配比加入，其大球直径为10-20毫米，中球直径为5-10毫米，小球直径为1-2毫米。
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