[发明专利]处理盒的再生方法无效
| 申请号： | 01124935.8 | 申请日： | 2001-06-28 |
| 公开（公告）号： | CN1149449C | 公开（公告）日： | 2004-05-12 |
| 发明（设计）人： | 日下田明;安田智;角海祥介 | 申请（专利权）人： | 佳能株式会社 |
| 主分类号： | G03G21/16 | 分类号： | G03G21/16 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 王彦斌 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
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| 摘要： | 一种再生处理盒的方法，该处理盒可拆卸地安装在电子照相成像设备的主体上，所述处理盒包括用于支撑电子照相感光鼓的第一框架，支撑用于使电子照相感光件上形成的静电潜像显影的显影辊、并容纳用于通过显影辊显影静电潜像的显影剂的第二框架，第一框架和第二框架可转动地互相连接，所述方法包含：(a)将第一框架和第二框架互相分离的框架分离步骤； (b)从第二框架上拆卸显影刀片的显影刀片拆卸步骤，其中显影刀片安装在第二框架上，以便调整显影辊上附着的显影剂量；(c)在所述第二框架和显影刀片之间安装密封材料的密封材料安装步骤；(d)显影剂填充步骤，将显影剂经显影剂供应开口填充入显影剂容纳部分中，其中该开口用于将显影剂容纳部分中容纳的显影剂供应到显影辊；(e)将显影刀片安装到第二框架的显影刀片安装步骤；(f)将第一框架和第二框架连接的框架连接步骤。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 再生 方法 | ||
【主权项】：
1.一种再生处理的方法，该处理盒可拆卸地安装在电子照相成像设备的主体上，所述处理盒包括用于支撑电子照相感光鼓的第一框架，支撑用于使电子照相感光件上形成的静电潜像显影的显影辊的第二框架，以及显影剂容纳部分，容纳用于通过显影辊显影静电潜像的显影剂，第一框架和第二框架可转动地互相连接，所述方法包括：(a)将第一框架和第二框架互相分离的框架分离步骤；(b)从第二框架上拆卸显影刀片的显影刀片拆卸步骤，其中显影刀片安装在第二框架上，以便调整显影辊上附着的显影剂量；(c)在所述第二框架和显影刀片之间安装弹性密封材料的密封材料安装步骤；(d)显影剂填充步骤，将显影剂经显影剂供应开口填充入显影剂容纳部分，供应到显影辊，显影剂容纳在显影剂容纳部分中；(e)将显影刀片安装到第二框架的显影刀片安装步骤；(f)将第一框架和第二框架连接的框架连接步骤。
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