[发明专利]光学记录介质及其生产方法无效
| 申请号： | 01125154.9 | 申请日： | 2001-08-30 |
| 公开（公告）号： | CN1341927A | 公开（公告）日： | 2002-03-27 |
| 发明（设计）人： | 山崎刚;行本智美;柏木俊行 | 申请（专利权）人： | 索尼株式会社 |
| 主分类号： | G11B7/24 | 分类号： | G11B7/24 |
| 代理公司： | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人： | 刘金辉 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
| 权利要求书： | 暂无信息 | 说明书： | 暂无信息 |
| 摘要： | 本发明提供了一种能够提高保护膜的厚度均匀性并抑制弯曲的光学记录介质。该介质的构型包括基材、在所述基材上形成的光学记录层、和在所述光学记录层上形成的透光保护膜,其中所述保护膜包括熔体铸塑制成的聚合物片材和用于将所述聚合物片材粘结到所述光学记录层上的粘合剂层。作为聚合物片材,可以使用聚碳酸酯片材、环状聚烯烃片材等。作为粘合剂层,可单独或混合或堆叠使用紫外线固化树脂、热固化树脂、环氧树脂基粘合剂或压敏粘合剂。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 记录 介质 及其 生产 方法 | ||
【主权项】：
1.一种光学记录介质，包括：基材；在所述基材上形成的光学记录层；和在所述光学记录层的上层上形成的透光保护膜；其中所述保护膜包括熔体铸塑制成的聚合物片材和用于将所述聚合物片材粘结到所述光学记录层上的粘合剂层。
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