[发明专利]磁头浮动块和磁头平衡架组件的制造方法和制造设备无效
申请号: | 01125271.5 | 申请日: | 2001-08-27 |
公开(公告)号: | CN1347116A | 公开(公告)日: | 2002-05-01 |
发明(设计)人: | 桥本清司;松本真明 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立制作所 |
主分类号: | G11B21/21 | 分类号: | G11B21/21 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 林长安 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 磁头浮动块的制造方法和制造设备配置了观察浮动块1气浮支承表面3曲率的装置,此时浮动块1处于予开的原材料或处于单个产品的状况;用于输入浮动块1的外形数据110如阶式止推支承深度等的外形数据输入器111,利用外形数据110来计算浮动块1的预测浮动高度;根据预测浮动高度和目标浮动高度之间的差别来计算出调整目标曲率的算术处理器112并且设有将浮动块1气浮支承表面3的曲率调整到目标曲率的装置。通过这些配置,调节了除气浮支承表面曲率以外的外形数据偏差所引起的浮动高度差异,即使当阶式止推支承深度等变化时,浮动块也可以实现浮动高度差异很小。 | ||
搜索关键词: | 磁头 浮动 平衡 组件 制造 方法 设备 | ||
【主权项】:
1.带有写入数据到旋转记录介质上和从旋转记录介质中读取数据的磁换能器的磁头浮动块的制造方法,包括以下步骤:输入所述浮动块的外形数据;利用所述外形数据来计算所述浮动块从气浮支承表面开始的预测浮动高度;根据所述预测浮动高度和所要目标浮动高度之间的差别来计算出调整目标曲率;和将所述气浮支承表面的曲率调整到所述目标曲率。
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