[发明专利]一种纳米碳化硅材料的制备方法有效
申请号: | 01127650.9 | 申请日: | 2001-07-25 |
公开(公告)号: | CN1164488C | 公开(公告)日: | 2004-09-01 |
发明(设计)人: | 许宁生;吴志盛;邓少芝;周军 | 申请(专利权)人: | 中山大学 |
主分类号: | C01B31/36 | 分类号: | C01B31/36 |
代理公司: | 广州市新诺专利事务所有限公司 | 代理人: | 华辉 |
地址: | 510275广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明涉及一种纳米碳化硅材料的制备方法。本方法以微米量级或块状的SiC原料为原材料,加上催化剂,预先抽真空,然后通入惰性气体作为保护气氛,最后加热至1300℃~2000℃并保温一段时间,制备得到的具有碳化硅纳米棒或纳米线的纳米材料,有助于相关碳化硅光电器件,特别是纳米光电器件和场发射阴极电子源的研制。本方法工艺简单,原材料成本低,产率高。 | ||
搜索关键词: | 一种 纳米 碳化硅 材料 制备 方法 | ||
【主权项】:
1、一种纳米碳化硅材料的制备方法,其特征在于:其工艺步骤为 1).将SiC原料与催化剂铁或铝的混合物,连同加热装置预抽真空至 5.0×10-2torr以上真空度,然后通惰性气体作为保护气体; 2).加热至1300~2000℃,保温5分钟至2小时。
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