[发明专利]二氧化钛光催化自洁陶瓷及其制备方法无效

专利信息
申请号: 01128387.4 申请日: 2001-08-30
公开(公告)号: CN1336352A 公开(公告)日: 2002-02-20
发明(设计)人: 贺飞;唐怀军;赵文宽;方佑龄 申请(专利权)人: 武汉大学
主分类号: C04B41/85 分类号: C04B41/85;C04B41/89;C04B41/86;C03C8/04
代理公司: 武汉天力专利事务所 代理人: 程祥,冯卫平
地址: 430072*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明涉及二氧化钛光催化自洁陶瓷及其制备方法。所述陶瓷包括陶瓷本体或陶瓷制成品,其关键是在陶瓷本体上或陶瓷制成品的釉面上紧密复合有由纳米二氧化钛为主要成分的光催化薄膜和低温釉,将石英、石灰石、硼砂、氧化锌和锆英石混合烧成温度为950-1000℃的低温熔块釉,然后将高岭土、水和粘合剂混合均匀制成釉浆,采用已有施釉、烧成工艺和设备烧制到陶瓷本体上或陶瓷制成品的釉面上,将二氧化钛溶胶负载到陶瓷釉面,烧制成所需的二氧化钛光催化自洁陶瓷。本发明无须使用蒸馏水、丙酮等溶剂对陶瓷釉面进行清洗,可以简化工艺和降低工业成本。本发明所制备的陶瓷制品表面光洁美观、温润细腻,呈银白色或银黄色,耐酸碱,抗刮磨,不仅具有传统陶瓷细腻光洁的表观特性又具有自动去污、持久保持清洁美观。
搜索关键词: 氧化 光催化 陶瓷 及其 制备 方法
【主权项】:
1.二氧化钛光催化自洁陶瓷,包括陶瓷本体或陶瓷制成品,其特征是:在陶瓷本体上或陶瓷制成品的釉面上紧密复合有由纳米二氧化钛为主要成分的光催化薄膜和低温釉,低温釉的釉料配方为石英25-30份石灰石4-5份、硼砂28-30份、氧化锌8-10份、锆英石5-8份,以上均为质量份数,将上述组份混合烧成温度为950-1000℃的低温熔块釉,以上述熔块92-96份、高岭土4-8份,加50-100份水、0-2份水溶性有机聚合物粘合剂混合均匀制成釉浆,采用已有施釉、烧成工艺和设备烧制到陶瓷本体上或陶瓷制成品的釉面上。
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