[发明专利]基体上自洁净、超亲水性光催化薄膜的制备方法无效
| 申请号： | 01129992.4 | 申请日： | 2001-11-29 |
| 公开（公告）号： | CN1421496A | 公开（公告）日： | 2003-06-04 |
| 发明（设计）人： | 李新军;王良焱;李芳柏;郑少健;张开坚;何明兴;黄北卫;朱胜友 | 申请（专利权）人： | 中国科学院广州能源研究所;攀枝花钢铁有限责任公司钢铁研究院 |
| 主分类号： | C09D5/00 | 分类号： | C09D5/00 |
| 代理公司： | 广州科粤专利代理有限责任公司 | 代理人： | 赖汉光 |
| 地址： | 510170 *** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明涉及基体上自洁净、超亲水性光催化薄膜的制备方法，它依次包括如下步骤(a)用洗液或溶剂将基体材料清洗干净；(b)基体材料放入反应器中，在100～500℃温度下加热5－60分钟；(c)分别通载气或抽真空、通镀膜原材气体、通载气或抽真空、通水蒸汽各2－100分钟，并重复多次。基体上形成的薄膜具有自洁净、超亲水性、稳定性、均匀性、耐磨性；防霉杀菌、该表面被污染后可以自洁净，或容易被清洗；该方法操作方便，低成本。本方法的用途很广，基体可以是玻璃、陶瓷、不锈钢。 | ||
| 搜索关键词： | 基体 洁净 亲水性 光催化 薄膜 制备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种基体上自洁净、超亲水性光催化薄膜的制备方法，依次包括如下步骤：(a)用洗液或溶剂将基体材料清洗干净；(b)基体材料放入反应器中，在100～500℃温度下加热5-60分钟；(c)分别通载气或抽真空、通镀膜原材气体、通载气或抽真空、通水蒸汽各2-100分钟，并重复多次。
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