[发明专利]不对称酞菁衍生物及其在光学记录介质中的应用无效
申请号: | 01130635.1 | 申请日: | 2001-08-16 |
公开(公告)号: | CN1356329A | 公开(公告)日: | 2002-07-03 |
发明(设计)人: | 宾月景;郑飞璠;陈炜 | 申请(专利权)人: | 天津青迈信息材料有限公司 |
主分类号: | C07D487/22 | 分类号: | C07D487/22;C07F3/00;C07F5/00;C07F7/00;G11B7/24;G03G5/06;C09B47/04 |
代理公司: | 北京市汇泽专利商标事务所 | 代理人: | 赵军 |
地址: | 100084 北京市海*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及一种不对称酞菁衍生物及其在光学记录介质中的应用,其是酞菁与二价、三价或四价金属、氧合金属、卤合金属、羟合金属、二个氢原子或非金属的配合物,它含有至少两个与外围碳骨架不对称连接的一个-Br,一个-O-KW或一个-KW取代基,其中,KW为饱和的、不饱和的或者芳族的、取代或未取代的烃基。与传统酞菁材料相比,其具有在醇醚类溶剂中溶解度高,不需要加入辅助溶剂,简化染料溶液配制过程,降低光盘制造成本,提高光盘质量的优点。 | ||
搜索关键词: | 不对称 衍生物 及其 光学 记录 介质 中的 应用 | ||
【主权项】:
1.一种不对称酞菁衍生物,其特征在于是酞菁与二价、三价或四价金属、氧合金属、卤合金属、羟合金属、二个氢原子或非金属的配合物,它含有至少两个与外围碳骨架不对称连接的一个-Br,一个-O-KW或一个-KW取代基,其中,KW为饱和的、不饱和的或者芳族的、取代或未取代的烃基。
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