[发明专利]室温GaAs红外探测器无效
申请号: | 01131925.9 | 申请日: | 2001-10-16 |
公开(公告)号: | CN1152434C | 公开(公告)日: | 2004-06-02 |
发明(设计)人: | 陆卫;李宁;李志锋;陈效双 | 申请(专利权)人: | 中国科学院上海技术物理研究所 |
主分类号: | H01L27/14 | 分类号: | H01L27/14;G01K7/34;H01G9/04 |
代理公司: | 上海智信专利代理有限公司 | 代理人: | 郭英 |
地址: | 20008*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | 本发明公开了一种基于平板电容随温度变化原理设计的室温GaAs红外探测器。该探测器的结构是:在GaAs衬底上,有一与GaAs衬底牢固结合的高掺杂Si GaAs平板电容下电极层,在下电极层与上电极层的一端头之间有一AlAs间隔支撑层,支撑平板电容上电极层,使上电极层的突出部分被悬空,上电极层的材料为高掺杂SiGaAs,在上电极层上覆盖着一层Si3N4吸热层。当探测器的吸热层受到热辐射时,引起上、下电极层之间的距离变化,从而引起电容的相对变化。该探测器的电容相对变化量可比现有的可实现间距为200纳米的Si探测器的电容相对变化量更大,进而具有更高的探测灵敏度,形成性能优越的红外探测器。 | ||
搜索关键词: | 室温 gaas 红外探测器 | ||
【主权项】:
1.一种室温GaAs红外探测器,包括衬底、下电极层、间隔支撑层、上电极层,其特征在于:在GaAs衬底上,有一与GaAs衬底(1)牢固结合的厚度为1-2微米的高掺杂Si:GaAs平板电容下电极层(2),在下电极层与上电极层的一端头之间有一厚度为30-60纳米的AlAs间隔支撑层(3),支撑平板电容上电极层(4),使上电极层部分被悬空,上电极层的厚度为300-1000纳米,上电极层为高掺杂Si:GaAs,在上电极层上覆盖着一层比上电极层四周边长小的厚度为80-120纳米的Si3N4吸热层(5),在上电极层和下电极层边上分别有一个引出电极(6)。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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