[发明专利]真空多元溅射镀膜方法无效
| 申请号： | 01133487.8 | 申请日： | 2001-11-20 |
| 公开（公告）号： | CN1358881A | 公开（公告）日： | 2002-07-17 |
| 发明（设计）人： | 李会斌 | 申请（专利权）人： | 中国科学院长春光学精密机械与物理研究所 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 长春科宇专利代理有限责任公司 | 代理人： | 梁爱荣 |
| 地址： | 130022 *** | 国省代码： | 吉林;22 |
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| 摘要： | 本发明涉及对溅射镀膜方法的改进。按镀膜材料选择交流电源,将交流电源与两组靶连接,使两组靶处于正负电位交替变化的状态;镀膜材料分别放置在两组靶上,根据的需要调节每个靶的功率调节器,靶上的镀膜材料在真空气体放电的环境下发生溅射,被溅射的镀膜材料沉积到衬基上,则在衬基上得到多种元素镀膜材料之间比例可调的薄膜。本发明采用单电源多靶进行多种镀膜材料的溅射,溅射出混合材料的薄膜,还可溅射出无边界的连续的多层膜;溅射的稳定性高;用磁控溅射方式提高溅射速率,降低溅射电压,成本低,提高使用的安全性。本发明是能制备混合物薄膜和多种元素的化合物薄膜、应用范围大的真空多元溅射镀膜方法。 | ||
| 搜索关键词： | 真空 多元 溅射 镀膜 方法 | ||
【主权项】：
1、真空多元溅射镀膜方法，其特征在于：首先按镀膜材料的需要选择交流电源的频率，将交流电源的两个电极分别与两组靶连接，在交流电源的同一个周期里，一组靶由负电位转变为正电位，而另一组靶由正电位转变为负电位，使上述两组靶的电位不断地处于正负电位的交替变化的状态；再把两种元素的镀膜材料或多种元素的镀膜材料分别放置在两组靶上，将交流电源接通并根据薄膜制备工艺的需要分别调节每个靶的功率调节器，使两组靶上的镀膜材料在真空气体放电的环境下发生溅射，被溅射的镀膜材料沉积到衬基上，则在衬基上得到多种元素镀膜材料之间比例可调的薄膜。
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