[发明专利]一种激光防护膜及其制作方法

摘要

本发明公开了一种激光防护膜及其制作方法。这种激光防护膜包括基片、氧化物膜层(H)、氧化硅膜层(L)，其膜系为：Sub/(HL)PH0.5L/Air。该防护膜的制作方法主要包括电子束蒸发、离子束溅射或离子束辅助等相关工艺。该防护膜对1.06μm和1.315μm波长范围的激光进行高反射，对其它波长范围的光线则高透过，可用于保护卫星中的光学传感器，使其不受具有1.06μm和1.315μm波长的激光武器的影响。

主权项

1、一种对1.06μm和1.315μm波长范围的激光进行高反射、对其它波长范围光线高透的激光防护膜，膜系由基片(Sub)(1)、氧化物膜层(H)(2)、氧化硅膜层(L)(3)组成，其特征在于：膜系结构为：Sub/(HL)PH0.5L/Air；其中，氧化物膜层/氧化硅膜层((HL)P)的对数P＝9～15；氧化物膜层(H)(2)的厚度为λ/4(λ为激光波长＝1.315μm，下同)；氧化硅膜层(L)(3)的厚度为λ/4，Air——空气。