[发明专利]防止天线效应的氮化硅只读存储器组件的结构有效
申请号: | 01134771.6 | 申请日: | 2001-11-12 |
公开(公告)号: | CN1419294A | 公开(公告)日: | 2003-05-21 |
发明(设计)人: | 郭东政;刘建宏;潘锡树;黄守伟 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/112 | 分类号: | H01L27/112 |
代理公司: | 北京集佳专利商标事务所 | 代理人: | 王学强 |
地址: | 台湾省新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 一种防止天线效应的氮化硅只读存储器的结构,此结构由一字符线、一电荷捕捉层以及一金属保护线所组成。其中字符线覆盖于基底上,且字符线是由一硅化金属层与一多晶硅层组成。电荷捕捉层位于字符线与基底之间,且电荷捕捉层为一氧化硅/氮化硅/氧化硅(ONO)复合层结构中的氮化硅层。金属保护线覆盖于基底上,连接字符线以及位于基底中的一接地掺杂区,且金属保护线的阻值高于字符线。工艺过程中所产生的电荷可以经由金属保护线导入基底中。而金属保护线的阻值高于字符线,可于工艺过程结束后,通过施加一高电流以烧断金属保护线,使只读存储器组件可以正常操作。 | ||
搜索关键词: | 防止 天线 效应 氮化 只读存储器 组件 结构 | ||
【主权项】:
1、一种防止天线效应的氮化硅只读存储器的结构,该结构包括:一基底;一字符线,该字符线覆盖于该基底上,其特征是,该结构还包括:一电荷捕捉层,该电荷捕捉层位于该字符线与该基底之间;以及一金属保护线,该金属保护线覆盖于该基底之上,且连接该字符线以及位于该基底中的一接地掺杂区,其中该金属保护线的阻值高于该字符线。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
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