[发明专利]防止天线效应的氮化硅只读存储器组件的结构有效

专利信息
申请号: 01134771.6 申请日: 2001-11-12
公开(公告)号: CN1419294A 公开(公告)日: 2003-05-21
发明(设计)人: 郭东政;刘建宏;潘锡树;黄守伟 申请(专利权)人: 旺宏电子股份有限公司
主分类号: H01L27/112 分类号: H01L27/112
代理公司: 北京集佳专利商标事务所 代理人: 王学强
地址: 台湾省新竹*** 国省代码: 台湾;71
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摘要: 一种防止天线效应的氮化硅只读存储器的结构,此结构由一字符线、一电荷捕捉层以及一金属保护线所组成。其中字符线覆盖于基底上,且字符线是由一硅化金属层与一多晶硅层组成。电荷捕捉层位于字符线与基底之间,且电荷捕捉层为一氧化硅/氮化硅/氧化硅(ONO)复合层结构中的氮化硅层。金属保护线覆盖于基底上,连接字符线以及位于基底中的一接地掺杂区,且金属保护线的阻值高于字符线。工艺过程中所产生的电荷可以经由金属保护线导入基底中。而金属保护线的阻值高于字符线,可于工艺过程结束后,通过施加一高电流以烧断金属保护线,使只读存储器组件可以正常操作。
搜索关键词: 防止 天线 效应 氮化 只读存储器 组件 结构
【主权项】:
1、一种防止天线效应的氮化硅只读存储器的结构,该结构包括:一基底;一字符线,该字符线覆盖于该基底上,其特征是,该结构还包括:一电荷捕捉层,该电荷捕捉层位于该字符线与该基底之间;以及一金属保护线,该金属保护线覆盖于该基底之上,且连接该字符线以及位于该基底中的一接地掺杂区,其中该金属保护线的阻值高于该字符线。
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