[发明专利]带有非线性掩膜夹层结构的超分辨高密光盘无效
申请号: | 01134864.X | 申请日: | 2001-11-16 |
公开(公告)号: | CN1352455A | 公开(公告)日: | 2002-06-05 |
发明(设计)人: | 徐端颐;刘嵘;佘鹏;雷志军;区定容 | 申请(专利权)人: | 清华大学 |
主分类号: | G11B7/24 | 分类号: | G11B7/24 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 10008*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: |
带有非线性掩膜夹层结构的超分辨高密光盘属于光致超分辨技术领域。其特征在于该光盘还包括由第一间隔层,中间介质层、第二间隔层共三层介质薄膜层组成的掩膜夹层,整个掩膜夹层可置于盘基和记录层之间,或置于第n-1层记录层和第n层记录层之间,或第m-1层记录层和第m层记录层之间(1 | ||
搜索关键词: | 带有 非线性 夹层 结构 分辨 高密 光盘 | ||
【主权项】:
1.一种带有非线性掩膜夹层结构的超分辨高密光盘,含有盘基,记录层,掩膜层,反射层和保护层,其特征在于,它含有:依次相互排列的盘基,掩膜夹层,记录层,反射层和保护层,所述的掩膜夹层依次由第一间隔层,中间介质层和第二间隔层共三层介质薄膜组成;所述的掩膜夹层和记录层的厚度总和要小于读写系统的焦点深度;按照盘基在上的顺序,所述的光盘各层及其厚度依次是:(1)盘基,厚度0.1mm~10mm,(2)第一间隔层,厚度5nm~1000nm,(3)中间介质层,厚度5nm~1000nm,(4)第二间隔层,厚度5nm~1000nm,(5)记录层,厚度5nm~2000nm,(6)反射层,厚度5nm~1000nm,(7)保护层,厚度1um~5mm。
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