[发明专利]化学放大型正光刻胶组合物无效
| 申请号： | 01135041.5 | 申请日： | 2001-11-16 |
| 公开（公告）号： | CN1354392A | 公开（公告）日： | 2002-06-19 |
| 发明（设计）人： | 上谷保则;大桥贤治;森马洋 | 申请（专利权）人： | 住友化学工业株式会社 |
| 主分类号： | G03F7/039 | 分类号： | G03F7/039 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 | 代理人： | 李悦 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种化学放大型正光刻胶组合物,适合用于利用ArF、KrF等的激发激光的平板印刷,并能提供良好的剖面形状,它含有具有被2－烷基－2－金刚烷基或1－金刚烷基－1－烷基烷基保护的碱溶性基团的树脂,其本身不溶于或微溶于碱,但通过酸的作用溶于碱;和上式(I)表示的锍盐产酸剂，其中Q1、Q2和Q3独立表示氢、羟基、具有1－6个碳原子的烷基、或具有1－6个碳原子的烷氧基;Q4表示可以具有环结构的全氟烷基。 | ||
| 搜索关键词： | 化学 大型 光刻 组合 | ||
【主权项】：
1.一种化学放大型正光刻胶组合物，它含有具有被2-烷基-2-金刚烷基或1-金刚烷基-1-烷基烷基保护的碱溶性基团的树脂，其本身不溶于或微溶于碱，但通过酸的作用溶于碱；和下式(I)表示的锍盐产酸剂：其中Q1、Q2和Q3独立表示氢、羟基、具有1-6个碳原子的烷基、或具有1-6个碳原子的烷氧基；Q4表示可以具有环结构的全氟烷基。
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