[发明专利]高效能栅极氮化物只读存储器的结构有效
申请号: | 01135825.4 | 申请日: | 2001-10-18 |
公开(公告)号: | CN1412858A | 公开(公告)日: | 2003-04-23 |
发明(设计)人: | 张国华;邱珍元 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L29/78 | 分类号: | H01L29/78;H01L27/112 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 陈亮 |
地址: | 台湾省新竹科学*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明揭露了一种高效能栅极氮化物只读存储器的结构。本结构包含隧道(tunnel)氧化层在底材上,接着,非晶硅层在隧道氧化层上,再者,多晶硅锗层在非晶硅层上,然后,内多晶硅介电层在多晶硅锗层上。最后,多晶硅层在内多晶硅介电层上。 | ||
搜索关键词: | 高效能 栅极 氮化物 只读存储器 结构 | ||
【主权项】:
1.一种在底材上的栅极结构,该栅极结构包含:一隧道氧化层,在该底材上;一非晶硅层,在该隧道氧化层上;一多晶硅锗层,在该非晶硅层上;一内多晶硅介电层,在该多晶硅锗层上;及一多晶硅层,在该内多晶硅介电层上。
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