[发明专利]紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法无效
| 申请号： | 01136303.7 | 申请日： | 2001-10-09 |
| 公开（公告）号： | CN1412346A | 公开（公告）日： | 2003-04-23 |
| 发明（设计）人： | 申家镜;彭鸿雁;邵春雷;魏雪峰 | 申请（专利权）人： | 黑龙江省光电技术研究所 |
| 主分类号： | C23C16/27 | 分类号： | C23C16/27;C23C16/503 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 157000 黑龙*** | 国省代码： | 黑龙江;23 |
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| 摘要： | 紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法，其特征是，它是用紫外光对直流辉光放电化学气相沉积金刚石膜反应腔中的生长衬底表面进行照射。用该方法制备金刚石薄膜具有生长速度快和质量高的优点。 | ||
| 搜索关键词： | 紫外 光子 复合 辉光 放电 化学 沉积 制备 金刚石 薄膜 方法 | ||
【主权项】：
紫外光子复合辉光放电化学气相沉积制备金刚石薄膜的方法，其特征是，它是用紫外光对直流辉光放电化学气相沉积金刚石膜反应腔中的生长衬底表面进行照射。
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C23 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
