[发明专利]一种用于直拉硅单晶制备中的掺杂方法及其装置有效
申请号: | 01136694.X | 申请日: | 2001-10-26 |
公开(公告)号: | CN1414147A | 公开(公告)日: | 2003-04-30 |
发明(设计)人: | 屠海令;秦福;周旗钢;张果虎;方锋;吴志强;戴小林 | 申请(专利权)人: | 北京有色金属研究总院;有研半导体材料股份有限公司 |
主分类号: | C30B15/04 | 分类号: | C30B15/04 |
代理公司: | 北京元中专利事务所 | 代理人: | 母宗绪 |
地址: | 100088*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明涉及生产硅单晶棒的掺杂方法及设备,是一种用于直拉硅单晶制备中的掺杂的方法及装置,用于直拉硅单晶的掺杂。将待掺杂的元素置于掺杂装置的内筒中,将带有盛放着掺杂元素内筒的掺杂装置,下降到多晶硅熔体的液面上,在石英坩埚的旋转下,使被掺杂的元素挥发完全,使石英坩埚继续旋转所需时间,安装上特定晶向的籽晶进行单晶硅棒的拉制。应用本发明的气相掺杂法解决了已有技术中掺杂效率低的技术问题。提高了掺杂效率,减少了回熔次数;本发明的掺杂装置由钟罩、吊钩、内筒所组成,使得本发明的掺杂方法得以实现。 | ||
搜索关键词: | 一种 用于 直拉硅单晶 制备 中的 掺杂 方法 及其 装置 | ||
【主权项】:
1、一种用于直拉硅单晶制备中的掺杂方法,其特征在是:1)将所要掺杂的需要量的掺杂元素,置于掺杂装置的内筒中;2)将带有内筒的掺杂装置悬挂在晶体提拉舱室中,抽真空,晶体提拉舱室和晶体生长室中充入氩气;3)将原料多晶硅熔化,多晶硅熔化后,,在石英坩埚旋转的条件下,将带有盛放着掺杂元素内筒的掺杂装置,下降至多晶硅熔体的液面上;4)待被掺杂的元素挥发完全后,盛有硅熔体的石英坩埚继续旋转所需要的时间;5)将带有内筒的掺杂装置提升到晶体提拉舱室中,关闭晶体提拉舱室与晶体生长室之间的隔离阀,向晶体拉舱室中充入氩气,使氩气的压力为1.1×105Pa,打开晶体提拉舱室的门,安装上特定晶向的籽晶,6)将晶体提拉舱中的压力抽至晶体生长室的压力,开启隔离阀,进行单晶硅棒拉制。
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