[发明专利]用于半导体器件的超净室无效
| 申请号： | 01137431.4 | 申请日： | 2001-11-08 |
| 公开（公告）号： | CN1353233A | 公开（公告）日： | 2002-06-12 |
| 发明（设计）人： | 中川敏明 | 申请（专利权）人： | 夏普公司 |
| 主分类号： | E04H1/12 | 分类号： | E04H1/12 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 张志醒 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种超净室1,包括一个设备安装区域3(3a至3h),在其中安装有用于处理要被处理的物件的设备;一个处理区域4,在其中所述物件被装载到设备中或从设备卸下;和一个操作区域2,在其中操作设备。设备安装区域3、处理区域4和操作区域2按上述次序水平地布置并且由隔板42和43相互分隔。这些区域3、4和2是相互独立地进行空气调节的。于是,超净室1可防止物件的污染并且降低超净室中的化学过滤器的运作成本。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 半导体器件 净室 | ||
【主权项】：
1.一种超净室，包括：一个设备安装区域，在其中安装有用于处理要被处理的物件的设备；一个处理区域，在其中要被处理的物件被装载到所述设备中或从所述设备卸下；和一个操作区域，在其中操作设备，其中，所述设备安装区域、所述处理区域和所述操作区域按上述次序如此水平地布置，使得由隔板而被相互分隔，并且，其中，所述设备安装区域、所述处理区域和所述操作区域是相互独立地进行空气调节的。
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