[发明专利]制造和/或者修复发光设备的方法有效
| 申请号： | 01139397.1 | 申请日： | 2001-10-10 |
| 公开（公告）号： | CN1350417A | 公开（公告）日： | 2002-05-22 |
| 发明（设计）人： | 山崎舜平;荒井康行;长田麻衣 | 申请（专利权）人： | 株式会社半导体能源研究所 |
| 主分类号： | H05B33/00 | 分类号： | H05B33/00;H05B33/10;H01L33/00 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 梁永 |
| 地址： | 日本神*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供了修复发光设备的方法,它使得高质量图象显示成为可能即使在EL层得形成期间形成了小孔。修复发光设备的方法特征为在给定时间间隔中将反偏压电压施加到EL元件上，因此减少当反偏压电压施加到EL元件上的时候流入EL元件的电流。 | ||
| 搜索关键词： | 制造 或者 修复 发光 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.修复发光设备的方法包括将第一电压和第二电压依次施加到发光元件上的步骤，其中第一电压和第二电压是不同电平的反偏压电压。
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