[发明专利]光学用被覆膜有效
| 申请号： | 01140238.5 | 申请日： | 2001-12-07 |
| 公开（公告）号： | CN1357453A | 公开（公告）日： | 2002-07-10 |
| 发明（设计）人： | 熊野胜文;小田尚伸;伊藤明 | 申请（专利权）人： | 东洋纺绩株式会社 |
| 主分类号： | B32B27/32 | 分类号： | B32B27/32 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 日本国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及一种光学用被覆膜,是将厚度50μm以上的透明的双轴定向热塑性树脂膜作为基材,在上述基材的至少一个面具有粘合性改性树脂层的被覆膜,其特征是上述被覆膜的表面上深度1μm以上且长度3mm以上的疵点个数在100个/m2以下。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 被覆 | ||
【主权项】：
1.一种光学用被覆膜，是将厚度50μm以上的透明的双轴定向热塑性树脂膜作为基材，在上述基材的至少一个面具有粘合性改性树脂层的被覆膜，其特征是上述被覆膜的表面上深度1μm以上且长度3mm以上的疵点个数在100个/m2以下。
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