[发明专利]利用档片图案制造活动区以稳定黄光制程的方法无效
| 申请号： | 01141751.X | 申请日： | 2001-09-17 |
| 公开（公告）号： | CN1405844A | 公开（公告）日： | 2003-03-26 |
| 发明（设计）人： | 黄仲仁;陈昕辉;刘光文;王致皓;邱家荣 | 申请（专利权）人： | 旺宏电子股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L21/027 | 分类号： | H01L21/027;H01L21/30;G03F7/20 |
| 代理公司： | 北京三友知识产权代理有限公司 | 代理人： | 刘朝华 |
| 地址： | 台湾省新竹*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种利用档片图案制造活动区以稳定黄光制程的方法，先提供一活动区基础图案层，再配合一档片图案附属扩散层，并利用逻辑操作将此档片图案附属扩散层与活动区基础图案层连结在一起，以将档片图案附属扩散层填补入活动区基础图案层的空旷区来增加活动区的图案密度，并得到一符合逻辑元件产品要求的图案层，使其可适用于不同逻辑元件的活动区图案密度，同时亦降低产品之间的密度差异。具有简化黄光制程并使制程较为稳定，及降低镜片热效应的功效。 | ||
| 搜索关键词： | 利用 图案 制造 活动 稳定 黄光制程 方法 | ||
【主权项】：
1、一种利用档片图案制造活动区以稳定黄光制程的方法，其特征是：它依次包括下列步骤：(1)提供一产品元件所需的活动区基础图案层；(2)再形成一层特殊且规则的档片图案附属扩散层；(3)利用逻辑操作，连结该活动区基础图案层及该档片图案附属扩散层，而完成最后的扩散层，以获得一逻辑元件产品图案层。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置；专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理；集成电路器件或其特殊部件的制造
