[发明专利]SNNNS类非挥发性存储胞的数据写入与清除方法有效
申请号: | 01142965.8 | 申请日: | 2001-12-03 |
公开(公告)号: | CN1423337A | 公开(公告)日: | 2003-06-11 |
发明(设计)人: | 范左鸿;卢道政;潘正圣;汪大晖 | 申请(专利权)人: | 旺宏电子股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/112 | 分类号: | H01L27/112;G11C11/34 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 任永武 |
地址: | 台湾省新竹科学*** | 国省代码: | 台湾;71 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 一种SNNNS类非挥发性存储胞的数据写入与清除方法。本发明是通过从汲极端射出通道热电子至一中间氮化硅层以执行数据写入,而通过从汲极端射出通道热空穴以执行数据清除。在低操作电压下,对于数据的写入与清除,本发明的SNNNS类非挥发性存储胞可提供高效率的通道热载子射出。因此,本发明方法可提供极佳的存储胞操作性能,例如较短的数据写入/清除时间及较低操作电压。 | ||
搜索关键词: | snnns 挥发性 存储 数据 写入 清除 方法 | ||
【主权项】:
1.一种SNNNS类非挥发性存储胞的数据写入方法,所述非挥发性存储胞包括一P型半导体基底、具有N型导电性的一第一扩散区、具有N型导电性的一第二扩散区,所述第一扩散区与所述第二扩散区互相隔开一段距离并且皆位于所述半导体基底表面下方、位于所述半导体基底内的所述第一扩散区与所述第二扩散区之间的一通道区、一多晶硅栅极及位于所述多晶硅栅极与所述通道区之间的包括一顶部氮化硅层、一中间氮化硅层及一底部氮化硅层的一栅极多层介电层,其特征在于,所述数据写入方法包括:施予一第一写入操作电压于所述多晶硅栅极;施予低于所述第一写入操作电压的一第二写入操作电压于所述第一扩散区;及将所述第二扩散区与所述半导体基底接地;借此使通道热电子射入所述中间氮化硅层以写入一预定数据至所述非挥发性存储胞。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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