[发明专利]一种氘化磷酸二氘铵(DADP)电光晶体的生长方法无效
申请号: | 01143234.9 | 申请日: | 2001-12-14 |
公开(公告)号: | CN1424439A | 公开(公告)日: | 2003-06-18 |
发明(设计)人: | 苏根博;庄欣欣;贺友平;李征东;马锦波;李国辉 | 申请(专利权)人: | 中国科学院福建物质结构研究所 |
主分类号: | C30B29/14 | 分类号: | C30B29/14;C30B7/08 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 3500*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | 一种氘化磷酸二氘铵(DADP)电光晶体的生长方法,属于晶体生长领域。它采用NH4H2PO4和重水为原料,用溶液降温法进行晶体生长,其生长条件为:溶液的pH=4~5,生长温度为60℃~室温,籽晶使用Z切方向,生长速度控制在1~3mm/天(z方向),控温精度为±0.01℃,晶体正反向转速为50~60转/分。本发明所采用的DADP晶体生长方法具有设备简单,操作方便,晶体生长速度快,获得高光学品质晶体的成功率高的优点。 | ||
搜索关键词: | 一种 氘化 磷酸 二氘铵 dadp 电光 晶体 生长 方法 | ||
【主权项】:
1.一种氘化磷酸二氘铵(DADP)电光晶体的生长方法,包括结晶原料的合成和晶体的生长方法两部分,其特征在于:(1)DADP结晶原料的合成:使用优级纯的含量>99.5%的NH4H2PO4试剂和纯度>99.5%的重水为原料,在重水溶液中采用三次重结晶氘化的方法得到含氘量大于95%的DADP晶体原料;(2)DADP晶体的生长方法采用溶液降温法,其生长条件为:生长溶液的酸碱度为纯态PH=4~5;DADP晶体的生长温度为60℃~室温;籽晶使用Z切的ADP晶体固定于有机玻璃转动圆盘,使之向下半锥生长;水浴恒温槽的控温精度为±0.01℃,晶体正反向转速为50~60转/分;晶体平均生长速度控制在1~3mm/天(z方向)。
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