[实用新型]塑料瓶内壁非晶碳镀膜机无效
申请号: | 01203128.3 | 申请日: | 2001-01-12 |
公开(公告)号: | CN2460530Y | 公开(公告)日: | 2001-11-21 |
发明(设计)人: | 黄胜兴;梁荣庆 | 申请(专利权)人: | 黄胜兴;李自茂 |
主分类号: | C23C16/26 | 分类号: | C23C16/26;C23C16/452 |
代理公司: | 汕头专利事务所 | 代理人: | 王少明,丁楚浩 |
地址: | 515041 广*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本实用新型涉及一种利用碳源气体在微波激发下形成等离子体而在塑料瓶内壁沉积非晶碳薄膜的塑料瓶内壁非晶碳镀膜机,该机至少包含一个这样的结构单元,一个由真空系统操纵从而可造成塑料瓶内腔真空的装置,一个使微波发生系统发生的微波作用于塑料瓶,使塑料瓶内腔的产生碳源气体形成等离子体的谐振腔;还有一个与碳源气体注入系统连通并可向塑料瓶内腔注入碳源气体的碳源气体通道。由本机器加工的塑料瓶有效控制瓶内气体从瓶壁流失和瓶外气体从瓶壁渗入。 | ||
搜索关键词: | 塑料瓶 内壁 非晶碳 镀膜 | ||
【主权项】:
1.一种在塑料瓶内壁镀上非晶碳薄膜的塑料瓶内壁非晶碳镀膜机,包括机架、微波发生系统、真空系统和碳源气体注入系统,其特征在于,该镀膜机至少包含一个这样的结构单元:一个由真空系统操纵从而可造成塑料瓶内腔(20)真空的装置;一个使微波发生系统发生的微波作用于塑料瓶,使塑料瓶内腔的碳源气体形成等离子体的谐振腔(4);还有一个与碳源气体注入系统连通并可向塑料瓶内腔(20)注入碳源气体的碳源气体通道。
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C23 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面化学处理;金属材料的扩散处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆;金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的