[实用新型]一种用于沉积制备薄膜的装置无效
| 申请号： | 01206056.9 | 申请日： | 2001-04-26 |
| 公开（公告）号： | CN2475739Y | 公开（公告）日： | 2002-02-06 |
| 发明（设计）人： | 陶伯万;刘兴钊;罗安;李言荣;何世明;陈家俊 | 申请（专利权）人： | 电子科技大学 |
| 主分类号： | C23C14/22 | 分类号： | C23C14/22 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 610054 *** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种用于沉积制备薄膜的装置，它是由导轨、转轴、圆形基片夹具组成，导轨与转轴相连，导轨中心线与转轴轴线有一夹角，圆形基片夹具置于导轨凹槽中，在凹槽中，圆形基片夹具和导轨有一个间隙，该装置实际上是以单轴带动实现基片的准双轴的旋转，它能在保证薄膜两面的一致性的前提下提高薄膜的均匀性。本实用新型结构简单、成本低、易于实现。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 用于 沉积 制备 薄膜 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于沉积制备薄膜的装置，其特征是：它是由导轨(1)、电机带动的转轴(2)、圆形基片夹具(3)组成，导轨(1)与电机带动的转轴(2)相连，导轨中心线(b)与转轴轴线(a)有一夹角α，导轨(1)上有凹槽(6)，圆形基片夹具(3)置于导轨(1)凹槽(6)中，在凹槽(6)中，圆形基片夹具(3)和导轨(1)有一个间隙(7)。
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