[发明专利]表面处理的铜箔及其制备方法和使用该铜箔的覆铜层压物有效
申请号: | 01800115.7 | 申请日: | 2001-01-24 |
公开(公告)号: | CN1358409A | 公开(公告)日: | 2002-07-10 |
发明(设计)人: | 三桥正和;片冈卓;高桥直臣 | 申请(专利权)人: | 三井金属鉱业株式会社 |
主分类号: | H05K3/38 | 分类号: | H05K3/38;C25D7/06 |
代理公司: | 上海专利商标事务所 | 代理人: | 白益华 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了制造印刷线路板用的表面处理的铜箔,该铜箔表面经过粗糙化处理和抗腐蚀处理,其中抗腐蚀处理包括在铜箔表面上形成锌-铜-锡三元合金电镀抗腐蚀层;在所述抗腐蚀层表面上形成电解铬酸盐层;在电解铬酸盐层上形成硅烷偶联剂吸附层;在使铜箔温度为105-200℃的条件下干燥该铜箔2-6秒钟。该表面处理的铜箔完全发挥了硅烷偶联剂的效果(所述硅烷偶联剂常用于具有锌-铜-锡三元合金电镀抗腐蚀层的铜箔),由此即使是宽0.2毫米的铜箔线路,其抗盐酸性也只是10%或更小的剥离强度下降百分率,还具有优良的耐湿性和耐热性。 | ||
搜索关键词: | 表面 处理 铜箔 及其 制备 方法 使用 层压 | ||
【主权项】:
1.一种制造印刷线路板用的表面处理的铜箔,该铜箔表面上进行了结节化处理和抗腐蚀处理,其中抗腐蚀处理包括在铜箔表面上形成锌-铜-锡三元合金电镀层;在锌-铜-锡三元合金电镀层上形成电解铬酸盐层;在电解铬酸盐层上形成硅烷偶联剂吸附层;干燥该铜箔2-6秒钟,使铜箔温度达到105-200℃。
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