[发明专利]抗蚀剂抗反射涂层组合物无效
| 申请号： | 01802441.6 | 申请日： | 2001-08-17 |
| 公开（公告）号： | CN1398362A | 公开（公告）日： | 2003-02-19 |
| 发明（设计）人： | 毛智彪;苏珊·高利;提莫希·G·爱当斯 | 申请（专利权）人： | 希普列公司 |
| 主分类号： | G03F7/09 | 分类号： | G03F7/09 |
| 代理公司： | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人： | 戈泊,梁洁 |
| 地址： | 美国马*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供适合用作其上涂敷有光致抗蚀剂层的抗反射涂层(“ARC”)的吸光组合物。本发明的抗反射涂层为抗浸蚀剂，且具有提高的在标准等离子浸蚀中的浸蚀速率。优选本发明的抗反射涂层比现有的组合物具有显著增加的氧含量。 | ||
| 搜索关键词： | 抗蚀剂抗 反射 涂层 组合 | ||
【主权项】：
1.一种有涂层的的基材，包括：一片基材，其上具有1)一层抗反射组合物涂层，以及2)抗反射层之上的一层光致抗蚀剂涂层；其中，该抗反射组合物包括至少约30摩尔％氧。
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