[发明专利]用于均匀散布微波的装置和使用该装置的加热系统无效
| 申请号： | 01802893.4 | 申请日： | 2001-11-26 |
| 公开（公告）号： | CN1394458A | 公开（公告）日： | 2003-01-29 |
| 发明（设计）人： | 李瑛憙 | 申请（专利权）人： | 李瑛憙 |
| 主分类号： | H05B6/64 | 分类号： | H05B6/64 |
| 代理公司： | 北京市中咨律师事务所 | 代理人： | 马江立,吴鹏 |
| 地址： | 韩国*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种用于散布微波的装置，它设有一个包括多个反射部分的主体，反射部分由能反射微波的材料制成并具有水平顶面和垂直侧面。多个反射部分的宽度被设定为微波波长λg的1/n倍。在基准面由与反射部分的宽度乘以(质数－1)所得到的值相对应的距离底面的高度限定的条件下，每个反射部分的深度可被设定为，用质数的最小本原根的自然数次方除以该质数所得的余数乘以该反射部分的宽度所得的值。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 均匀 散布 微波 装置 使用 加热 系统 | ||
【主权项】：
1.一种用于均匀散布微波的装置，它包括：一个具有多个反射部分的主体，该反射部分由能反射所述微波的材料制成，并具有与所述微波的波长成比例的相同的宽度和在基准面由与所述反射部分的所述宽度乘以(质数-1)所得到的数值相对应的距离其底面的高度限定的条件下得到的不同的深度；所述反射部分的所述宽度W被设定为所述微波的所述波长λg的1/n(n＝1，2，3，…)倍；和所述反射部分的所述深度Dk相对所述基准面根据下述等式(1)而设定：D＝gn模p，Dk＝D·W(1)其中，p是质数，g是质数p的最小本原根，n是诸如1、2、3、…的自然数，gn模p表示用gn除以p得到的余数。
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