[发明专利]抛光剂和生产平面层的方法无效
| 申请号： | 01807432.4 | 申请日： | 2001-03-19 |
| 公开（公告）号： | CN1420917A | 公开（公告）日： | 2003-05-28 |
| 发明（设计）人： | K·沃格特;D·潘特克;L·普佩;S·基尔希梅耶 | 申请（专利权）人： | 拜尔公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C09K3/14;//H01L21/3105 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 温宏艳,马崇德 |
| 地址： | 德国莱*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 采用包含SiO2的浆状物作为二氧化硅层平面化用的抛光剂。已发现，该浆状物在SiO2层抛光期间若所用硅溶胶具有双峰粒度分布则具有较高磨蚀速率。 | ||
| 搜索关键词： | 抛光 生产 平面 方法 | ||
【主权项】：
1.一种包含未通过键彼此连接的球形、不连续的二氧化硅颗粒的抛光剂，其特征在于，该抛光剂包含，a)5～95重量％粒度介于5～50nm的二氧化硅颗粒，和b)95～5重量％粒度介于50～200nm的二氧化硅颗粒，条件是，所有颗粒的总体具有双峰粒度分布。
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