[发明专利]光能转换装置无效
申请号: | 01807883.4 | 申请日: | 2001-03-13 |
公开(公告)号: | CN1422443A | 公开(公告)日: | 2003-06-04 |
发明(设计)人: | 町田暁夫;碓井节夫;野本和正 | 申请(专利权)人: | 索尼株式会社 |
主分类号: | H01L31/075 | 分类号: | H01L31/075 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 蔡胜有 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 一种光能转换装置10,包含形成在衬底上的第一杂质掺杂的半导体层5,它是混有第一杂质的半导体材料层;形成在第一杂质掺杂的半导体层5上的光活性层6,它是含氢的非晶半导体材料层;和混有第二杂质并且形成在光活性半导体层6上的第二杂质掺杂的半导体层7。第二杂质掺杂的半导体层是氢浓度比光活性半导体层6的材料低的多晶半导体材料层。在光活性半导体层6和第二杂质掺杂的半导体层7之间的界面结构中,深度方向的平均晶粒粒径在从第二杂质掺杂的半导体层向衬底1前进的方向上逐步降低。通过控制第二杂质掺杂的半导体层7的氢浓度,显著降低了第二杂质掺杂的半导体层7中的悬挂键的数目,显示出较高的结晶度,提高了装置10的转换效率。 | ||
搜索关键词: | 光能 转换 装置 | ||
【主权项】:
1.一种光能转换装置,包括:形成在衬底上的第一杂质掺杂的半导体层,所述第一杂质掺杂的半导体层是混有第一杂质的半导体材料层;形成在所述第一杂质掺杂的半导体层上的光活性层,所述光活性半导体层是含氢的非晶半导体材料层;和第二杂质掺杂的半导体层,混有第二杂质并形成在所述光活性半导体层上,所述第二杂质掺杂的半导体层是多晶半导体材料层,氢浓度比所述光活性半导体层的材料低;其中所述第二杂质掺杂的半导体层的平均晶粒粒径在从第二杂质掺杂的半导体层的表面向所述衬底前进的方向上逐步降低。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
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