[发明专利]用于优先除去氧化硅的系统无效
| 申请号： | 01807885.0 | 申请日： | 2001-04-09 |
| 公开（公告）号： | CN1422314A | 公开（公告）日： | 2003-06-04 |
| 发明（设计）人： | 布赖恩·L·米勒;杰弗里·P·张伯伦;戴维·J·施罗德 | 申请（专利权）人： | 卡伯特微电子公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 封新琴,巫肖南 |
| 地址： | 美国伊*** | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 提供平面化或抛光一种复合基材的系统、组合物和方法，该平面化或抛光系统包含(i)一种抛光组合物和(ii)一种研磨剂，该抛光组合物包括(a)约0.5重量％或以上的氟离子，(b)约1重量％或以上的胺，(c)约0.1重量％或以上的碱，和(d)水。本发明也提供平面化或抛光复合基材的方法，包括令该基材与系统接触，该系统包含(i)一种抛光组合物和(ii)一种研磨剂，该抛光组合物包括(a)约0.5重量％或以上的氟离子，(b)约1重量％或以上的胺，(c)约0.1重量％或以上的碱，和(d)水。 | ||
| 搜索关键词： | 用于 优先 除去 氧化 系统 | ||
【主权项】：
1.一种平面化或抛光复合基材的系统，该系统包含(i)一种抛光组合物和(ii)一种研磨剂，该抛光组合物包括(a)约0.5重量％或以上的氟离子，(b)约1重量％或以上的胺，(c)约0.1重量％或以上的碱，和(d)水。
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