[发明专利]处理电子元件的方法及装置无效
| 申请号： | 01809225.X | 申请日： | 2001-03-13 |
| 公开（公告）号： | CN1460037A | 公开（公告）日： | 2003-12-03 |
| 发明（设计）人： | 斯蒂文·韦尔豪韦贝克;刘易斯·柳;艾伦·E·沃尔持;C·韦德·希恩;克利斯托弗·F·麦康奈尔 | 申请（专利权）人： | 马特森技术公司 |
| 主分类号： | B08B3/10 | 分类号： | B08B3/10 |
| 代理公司： | 中原信达知识产权代理有限责任公司 | 代理人： | 陆弋,顾红霞 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 一种处理电子元件(11)的方法，其中电子元件(11)暴露在加热溶剂(15)中，并且随后暴露在臭氧化处理流体中。可选的，通过将电子元件(11)暴露在加热溶剂的经过层中，使电子元件(11)暴露在加热的溶剂(15)中。还提供了一种处理电子元件(11)的装置，其具有加热的溶剂(15)和臭氧化的流体。 | ||
| 搜索关键词： | 处理 电子元件 方法 装置 | ||
【主权项】：
1.一种用于处理电子元件的方法，该方法包括：a.将电子元件暴露在加热的溶剂中；以及b.随后将电子元件暴露在臭氧化处理流体中。
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