[发明专利]光学制版用的氟化物晶体透镜的坯体无效
| 申请号： | 01809345.0 | 申请日： | 2001-04-03 |
| 公开（公告）号： | CN1429285A | 公开（公告）日： | 2003-07-09 |
| 发明（设计）人： | A·M·马约利;M·A·佩尔 | 申请（专利权）人： | 康宁股份有限公司 |
| 主分类号： | C30B11/00 | 分类号： | C30B11/00;C30B29/12;G02B1/02 |
| 代理公司： | 上海专利商标事务所 | 代理人： | 朱黎明 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供一种高质量可识别的氟化物晶体光学微制版透镜的坯体，它用于形成微制版系统的透镜元件。该氟化物光学制版透镜坯体的高质量氟化物晶体特征可保证在采用高能短波长紫外线激光源的微制版制造过程中具有有利的性能。该光学制版用的氟化物晶体透镜坯体包含许多相邻邻接的，其边界角小的亚晶粒。 | ||
| 搜索关键词： | 光学 制版 氟化物 晶体 透镜 | ||
【主权项】：
1.一种光学制版用的氟化物晶体透镜的坯体，该坯体包含许多亚晶粒，每个所述的亚晶粒都具有亚晶粒结构，所述氟化物晶体坯体包括至少第一亚晶粒结构和第二亚晶粒结构，所述第二亚晶粒结构在由许多位错缺陷形成的第一缺陷边界处与所述第一亚晶粒结构相邻并邻接，所述边界位错缺陷具有相邻的第一亚晶粒-第二亚晶粒边界角，所述第一亚晶粒-第二亚晶粒边界角小于2分，所述晶体光学元件坯体的杂质含量为：Pb低于1ppm(重量)，Ce低于0.5ppm(重量)，Na低于2ppm(重量)，K低于2ppm(重量)，所述坯体的157nm对数底为10的吸光系数小于0.0022/cm，193nm对数底为10的吸光系数小于0.00043/cm，所述坯体的光学均匀性小于2ppm，平均双折射小于2nm/cmRMS，最大双折射小于5nm/cm。
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