[发明专利]处理含烃岩层的方法有效
申请号: | 01810049.X | 申请日: | 2001-04-24 |
公开(公告)号: | CN1430698A | 公开(公告)日: | 2003-07-16 |
发明(设计)人: | G·L·斯特戈美尔;S·L·威灵顿;E·张;H·J·万嘉;I·E·伯肯克;E·德鲁菲格纳克 | 申请(专利权)人: | 国际壳牌研究有限公司 |
主分类号: | E21B43/24 | 分类号: | E21B43/24 |
代理公司: | 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 | 代理人: | 孙爱 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 公开了一种就地处理含烃岩层和从所述岩层生产烃类流体的方法,其中岩层中存在的烃类在高压下热解,同时使用压力/温度控制,以致压力至少为可根据所选的温度由方程式(1)计算的压力或温度至多为可根据所选的压力由方程式(I)计算的温度,式中P为压力(巴,绝对),T为温度(℃),A和B为预定的参数,它们与生产的烃类流体的数量、组成或质量有关的性质有关。任选的是,所述的方法接着生产合成气的步骤,所述的步骤包括被本发明的方法部分消耗的含烃岩层与合成气生产用流体反应。任选的是,将如此生产的合成气转化成烃类和/或通过使如此生产的合成气膨胀和/或燃烧或将它用于燃料电池来产生能量。 | ||
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【主权项】:
1.一种就地处理含烃岩层以及从所述岩层生产烃类流体的方法,所述的方法包括在从岩层生产烃类流体的过程中热解岩层中存在的烃类,同时使用压力/温度控制,以致压力至少为可根据所选的温度由以下方程式计算的压力或温度至多为可根据所选的压力由以下方程式计算的温度:P=0.07*e-AT+273+B式中P为压力(巴,绝对),T为温度(℃),A和B为预定的参数,它们与生产的烃类流体的数量、组成或质量有关的性质有关。
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