[发明专利]清洁片、使用清洁片的输送件、使用清洁片与输送件的基片处理设备清洁方法有效
| 申请号： | 01810681.1 | 申请日： | 2001-05-08 |
| 公开（公告）号： | CN1433341A | 公开（公告）日： | 2003-07-30 |
| 发明（设计）人： | 并河亮;寺田好夫;额贺二郎;丰田英志 | 申请（专利权）人： | 日东电工株式会社 |
| 主分类号： | B08B1/00 | 分类号： | B08B1/00;B08B7/00;C09J7/02 |
| 代理公司： | 北京市柳沈律师事务所 | 代理人： | 李晓舒,魏晓刚 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明提供了一种清除基片处理设备内部的异物的清洁片。该清洁片包括基本上没有胶粘性和根据JISK7127确定的拉伸模量不小于0.98N/mm2的清洁层。或者，清洁片包括Vickers硬度不小于10的一个清洁层。 | ||
| 搜索关键词： | 清洁 使用 输送 处理 设备 方法 | ||
【主权项】：
1.一种清洁片，其包括基本上没有胶粘性并具有根据JISK7127确定的不小于0.98N/mm2的拉伸模量的清洁层。
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