[发明专利]包括钛和锆的物理汽相淀积靶件和使用方法无效
| 申请号： | 01811616.7 | 申请日： | 2001-05-31 |
| 公开（公告）号： | CN1437659A | 公开（公告）日： | 2003-08-20 |
| 发明（设计）人： | S·P·图尔纳 | 申请（专利权）人： | 霍尼韦尔国际公司 |
| 主分类号： | C23C14/34 | 分类号： | C23C14/34 |
| 代理公司： | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人： | 蔡民军,黄力行 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 本发明涉及包括钛和锆的物理汽相淀积靶件。这些靶件在整个靶件表面上和厚度中具有均匀的组织结构；与高纯度钛和钽比较还具有增加的机械强度。使用该溅射靶件溅射淀积一薄膜，这一薄膜可用作铜阻挡层。 | ||
| 搜索关键词： | 包括 物理 汽相淀积靶件 使用方法 | ||
【主权项】：
1.一种基本由钛和锆构成并主要包括(103)结晶组织结构、(102)结晶组织结构或(002)结晶组织结构的溅射靶件。
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