[发明专利]防止显影缺陷的方法和材料有效
| 申请号： | 01811661.2 | 申请日： | 2001-06-14 |
| 公开（公告）号： | CN1439119A | 公开（公告）日： | 2003-08-27 |
| 发明（设计）人： | 高野祐辅;居岛一叶;船户觉;村上佳男;田中初幸 | 申请（专利权）人： | 克拉瑞特国际有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/38 | 分类号： | G03F7/38;G03F7/039;H01L21/027 |
| 代理公司： | 北京三幸商标专利事务所 | 代理人： | 刘激扬 |
| 地址： | 暂无信息 | 国省代码： | 暂无信息 |
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| 摘要： | 将由含有表面活性剂的酸性组合物制得的减少显影缺陷的组合物涂布到在8英寸或更大的基质上形成的化学增强的光刻胶膜上。结果是，抗蚀剂表面成为亲水性，防止在抗蚀剂层上形成显影液很难溶解的层。通过从减少显影缺陷的组合物中扩散的适当量的酸，化学增强的光刻胶的膜厚度的减少，比没有涂布减少显影缺陷组合物大10～500，形成了没有图形轮廓变坏如T－形或圆顶形图形的抗蚀图形。 | ||
| 搜索关键词： | 防止 显影 缺陷 方法 材料 | ||
【主权项】：
1.一种形成抗蚀图形的方法，包括：在直径为8英寸或更大的基质上，通过涂布形成化学增强的光刻胶层的步骤；将用于减少显影缺陷的组合物，涂布在化学增强的光刻胶层上的步骤；通过涂布形成化学增强的光刻胶层的步骤或涂布用于减少显影缺陷的组合物的步骤中的至少一个完成后，进行烘烤的步骤；选择性曝光化学增强的光刻胶层的步骤；曝光后烘烤化学增强的光刻胶层的步骤；和显影化学增强的光刻胶层的步骤；并且该方法相对于没有涂布用于减少显影缺陷的组合物的情况，以10～500的程度增加了显影后化学增强的光刻胶厚度的减少量。
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