[发明专利]含涂布增强剂的旋布介电层组合物有效
申请号: | 01812929.3 | 申请日: | 2001-07-18 |
公开(公告)号: | CN1443211A | 公开(公告)日: | 2003-09-17 |
发明(设计)人: | L·K·米尔斯;J·M·多米诺弗斯基;G·D·罗斯;D·A·斯特兰德;K·L·福斯特;S·F·哈恩 | 申请(专利权)人: | 陶氏环球技术公司 |
主分类号: | C08G65/40 | 分类号: | C08G65/40;C08G61/00;C08F38/00;C07C13/567;C07C43/285;C07C22/08;C07C15/54;H01L23/29 |
代理公司: | 北京纪凯知识产权代理有限公司 | 代理人: | 程伟 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明是一种组合物,其包括(a)一种在有机溶剂中可分散的低聚物或聚合物,具有低介电常数,或者可硫化形成一种具有低介电常数的物质,(b)至少一种有机溶剂和(c)一种聚合物涂层添加剂,其在百万份组合物总重量中少于1000份(ppm)。该聚合物添加剂的特征在于,可以与组分(a)和溶剂体系混合,但是在涂布过程中变得与组分(a)和溶剂的混合物不相容。 | ||
搜索关键词: | 含涂布 增强 旋布介电层 组合 | ||
【主权项】:
1.一种适合涂布以形成薄膜的组合物,其包括:(a)一种聚合物或低聚物,占组合物总重量的40wt%以下,其可溶于或可分散于有机溶剂中,所述聚合物或低聚物的特征在于,其介电常数小于4.0或者可硫化形成一种介电常数小于4.0的硫化聚合物;(b)一个溶剂体系,包括至少一种有机溶剂,和(c)一种聚合物涂布添加剂,其在百万份组合物总重量中少于1000份,其中涂布添加剂分散于溶液中,但特征在于在涂布过程中当溶剂被去除时,该涂布添加剂与剩余物质不相容。
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