[发明专利]用于光刻法的旋压玻璃抗反射涂层的吸收性化合物无效
申请号: | 01813009.7 | 申请日: | 2001-07-12 |
公开(公告)号: | CN1443218A | 公开(公告)日: | 2003-09-17 |
发明(设计)人: | T·巴德温;M·里奇;J·德拉格;H·-J·吴;R·斯佩尔 | 申请(专利权)人: | 霍尼韦尔国际公司 |
主分类号: | C08L83/04 | 分类号: | C08L83/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 | 代理人: | 王景朝,郭广迅 |
地址: | 暂无信息 | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 作为有机光吸收化合物,使用了吸收性类醚化合物,其包含通过氧键连接到萘或者蒽发色团的硅乙氧基、硅二乙氧基或者硅三乙氧基物质。该吸收性类醚化合物被引入旋压玻璃材料,为深紫外光刻法提供抗反射涂层材料。合成该光吸收醚化合物的方法基于醇取代的发色团与乙酰氧基硅化合物在醇存在下的反应。还提供了制造包含吸收性类醚化合物的吸收性旋压玻璃材料的方法。 | ||
搜索关键词: | 用于 光刻 玻璃 反射 涂层 吸收性 化合物 | ||
【主权项】:
1.制造光吸收类醚化合物的方法,该方法包括:混合醇取代的稠合的苯环化合物,该稠环化合物包含两个或三个环,乙酰氧基硅化合物、醇和溶剂,以生产反应混合物;搅拌该反应混合物足够的时间以形成光吸收醚化合物;和除去酸性副产品。
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